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光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。可用于深硅刻蚀,适合于高深宽比工艺,透明度高,垂直度好。
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